製品情報

Precision and quality in every detail.

高純度グラファイト

K-MAXは、特に半導体分野向けに設計された高純度グラファイト加工製品を提供します。当社のグラファイト製品は、高純度・高導電性・高硬度・高クリーン性・優れた耐熱性 を特長とし、イオンプロセス装置内部の各種コンポーネントに求められる高い要求水準に対応可能です。これにより、装置の動作安定性と運用効率を効果的に向上させます。

製品特性

  • 高純度・高導電性:高温環境下でも安定して使用可能で、幅広い用途に対応。
  • 耐熱性・耐腐食性:過酷な作業環境にも適応し、製品寿命を延長。
  • 高精度加工対応:複雑な形状や高精度部品のカスタム製作が可能。
  • 柔軟な用途展開:イオン注入装置、CVD(化学気相成長)など半導体の中核装置に最適。

グラファイト加工技術

  • CNC高精度加工:グラファイトの特性に合わせた高効率切削加工を実施し、微細な公差を実現、精度と安定性を確保。
  • 表面処理技術:表面の滑らかさと耐久性を向上させ、パーティクル発生を抑制。
  • カスタム設計対応:お客様のご要望に応じ、さまざまな形状・サイズに対応した設計・加工が可能。

半導体分野での応用例

  • イオン注入装置部品:グラファイトの安定性により、注入工程の高精度かつ高効率な運転を実現。
  • CVD・PECVD装置:高温条件下でも優れた化学的安定性を発揮し、プロセスの信頼性を向上。

K-MAXは、顧客のCIPプロセス最適化および歩留まり改善を積極的に支援し、以下の専門サービスを提供します。

イオン衝撃に強い材料および表面コーティングの採用

耐プラズマ性・耐イオン性に優れた材料や、特殊表面コーティングを採用することで、部品寿命を延ばし、装置のメンテナンス頻度を低減します。

パーティクルの発生を抑える表面処理と材料選定

精密な表面処理技術と適切な材料選定により、プロセス中のパーティクル発生を抑制し、歩留まりとプロセスの安定性を向上させます。

当社は、技術革新と材料の最適化を通じて、お客様に高効率・高品質なプロセスソリューションを提供します。