製品情報
Precision and quality in every detail.
精密セラミックス
K-MAXは、高性能精密セラミック材料の研究開発および加工に特化し、さまざまな産業分野において高品質な材料ソリューションを提供します。先進的な技術力と豊富な専門知識を活かし、顧客ニーズに応じた高精度セラミック部品をカスタム製造し、高絶縁性、高温環境、特殊用途など、過酷な条件下でも優れた性能を発揮します。
主なセラミック材料
窒化アルミニウム（AlN）
- 特長：非常に高い熱伝導率、優れた機械的強度、優れた電気絶縁性を備え、プラズマやイオン衝撃に対して強い耐性を持つ。
- 用途：電子パッケージ、ヒートシンク、半導体基板などに広く使用され、高周波・高出力電子機器において優れた熱管理および絶縁性能を提供。
酸化アルミニウムセラミックス（Al₂O₃）
- 特長：高温耐性、耐摩耗性、耐衝撃性に優れ、プラズマやイオンに対する耐性も良好。
- 用途：マイクロエレクトロニクス製品、ガス・液体輸送システムに多く使用され、高周波電子機器において安定した絶縁性と耐摩耗性を発揮。
窒化ホウ素（BN）
- 特長：優れた熱安定性、低熱伝導率、良好な電気絶縁性を持ち、高エネルギープラズマ環境下でも安定した性能を維持。
- 用途：高温環境下での絶縁材や潤滑用途に適し、電子冷却および高出力光学部品に幅広く使用される。
酸化イットリウム（Y₂O₃）
- 特長：高温耐性、耐食性、優れた光学特性を持ち、プラズマおよび高エネルギーイオンからの保護に効果的。
- 用途：光学コーティング、セラミック基板、高温溶解用るつぼに用いられ、光電子分野の高性能光学装置に適合。
絶縁機能の特長
当社のセラミック材料は、優れた電気絶縁性能を提供し、高電圧・高周波高エネルギー環境での使用に最適です。特に以下の材料が顕著な効果を発揮します。
- 窒化アルミニウム（AlN）および窒化ホウ素（BN）：優れた電気絶縁性を有し、電子干渉を効果的に防止し、装置の安定動作を確保します。
- 酸化アルミニウム（Al₂O₃）および酸化イットリウム（Y₂O₃）：高温・高周波環境下においても卓越した絶縁性能を発揮し、プラズマによる腐食や摩耗から敏感なコンポーネントを保護します。
加工技術力
当社は先進的なセラミック加工設備を有し、高精度かつ複雑な形状の部品製作に対応可能です。
- ミクロン単位の精密加工：ミクロンレベルの寸法公差を実現し、部品の高い精度を確保。
- 複雑形状の製造対応：微細孔、曲面、特殊幾何形状などの加工が可能。
- 微細孔加工技術：高精度な孔径を必要とするアプリケーションに適合。
- 孔内部の鏡面仕上げ：高規格な用途に応じて、内面に対しても精密なポリッシング処理を実施。
私たちは常に技術革新と設備の高度化に努め、あらゆる業界の高性能・絶縁保護・高温耐性の要求に応える、卓越したセラミック材料と加工ソリューションを提供します。
